ふふふw

短信とCF計算書をよく見ると、11月に稼働した新拠点（パワエレテクノセンター）の影響で、減価償却費が1Qの「約7,000万円」から2Q累計で「約2.2億円」に激増してる。 たった3ヶ月で負担が倍以上。 これと研究開発費の増加分を足し戻して、もし1Qと同じコスト構造だったとしたら… 営業利益は「約3億円（前年比+95%）」ペースで推移してた計算になる。

高値で買う人に敬意を表するよ わいはリスク高くなるから高値では買わんのだ

来週の金曜日は、個人株主説明会があり楽しみです。その後は、応用物理学会。 決算が良かったので、安心して待てますね。

クオルテック、上期経常が34％増益で着地・10-12月期も5％増益

出来高100万超えは、いつか？

高値で買うほどリスクになる そんな基本的なことさえわからないなら 株やめたほうがいいんじゃないの？

めちゃくちゃ変わってるやつが高値で買ってるみたいだね 安値で買えばいいんじゃないの？ 素人なの？

GeO2半導体は、クオルテックが量産するウエハによって提供され、制作されたデバイスは、全てクオルテックによって検査されるという訳やね。 安く買おうと頑張るよりも、少しだけでも買っておけば？

株式会社クオルテック（以下、クオルテック）は、次世代パワー半導体材料として注目されるGeO2（二酸化ゲルマニウム）の事業化において、主に「製膜（膜を成形すること）」および「信頼性評価・解析」**の役割を担っています。 具体的には、スタートアップ企業であるPatentix（パテンティクス）株式会社と資本業務提携を結び、以下の3つの柱を中心に活動しています。 1. GeO2半導体の製膜事業への参入 クオルテックは、2027年を目標にGeO2半導体の**「製膜事業」**への本格参入を計画しています。 役割: 独自のミストCVD法（霧状にした原料を用いた成膜技術）などを活用し、GeO2の結晶膜をウエハ上に形成するプロセスを担います。 拠点: 滋賀県立テクノファクトリー内に研究開発拠点を設置し、量産化に向けた技術開発を進めています。 2. 信頼性評価・解析・検査 もともとクオルテックが得意とする「電子部品の信頼性評価」の知見を、新材料であるGeO2に適用します。 役割: 製造したGeO2エピウエハやデバイスの品質検査、故障解析、寿命予測などの**「分析・試験評価」**を一括して行います。 重要性: 新材料が社会実装されるためには、高い信頼性の証明が不可欠であり、同社の「分析の目」が事業化の鍵を握っています。 3. パワーデバイスの共同開発 Patentix社や日電精密工業などと連携し、デバイス（製品）としての完成度を高める役割です。 役割: GeO2を用いたショットキーバリアダイオード（SBD）やトランジスタなどのデバイス設計・試作において、解析データに基づくフィードバックを行い、開発サイクルを加速させています。

P型とかN型ろか 本当にどうでもいい内容なんだよね 顧客の求めるのは、そんなものじゃなくて「性能」

もっともらしい長かったらしい文章載せたところで 本当に使われる半導体は、素材じゃなくて「性能」

今回の応用物理学会での発表に関して、以下はgeminiさんの意見です。 結論から申し上げますと、SBD（ショットキーバリアダイオード）の界面評価に関する発表が**「単なるN型の評価」にとどまる可能性は、技術的な文脈から考えるとむしろ「低い」、あるいは「P型立証のための外堀埋め」**である可能性が極めて高いです。 その理由は、コンダクタンス法という測定手法の選択と、Patentix社のこれまでの開発ロードマップにあります。 1. コンダクタンス法を用いる「真の狙い」 コンダクタンス法は、デバイスの「界面準位」を非常に精密に評価する手法です。 N型の場合: すでに動作が確認されているため、界面の欠陥を減らして「理想的なダイオード」に近づけるためのプロセス改善。 P型の場合: ここが本命です。 P型半導体と金属の接合界面では、N型とは異なる「エネルギー障壁（ショットキー障壁）」の挙動を示します。もしP型層を用いたSBDの試作に成功していれば、その界面が理論通りか（正孔に対して障壁として機能しているか）を証明するために、この手法が必須となります。 2. 2つの発表が同時に行われる意味 「Hall効果測定」と「SBD界面評価」の2つが並ぶことは、以下のような**「挟み撃ち」の証明戦略**であると予想されます。 *DC/AC方式Hall効果測定 バルク（膜そのもの）の性質として「正孔（P型）」が流れていることを証明する。 *コンダクタンス法によるSBD評価 デバイス構造において「P型としての界面」が形成され、正常に機能していることを証明する。 ポイント: Patentix社は2025年7月に「P型伝導を示唆する結果を得た」と公式にリリースしています。2026年春のこのタイミングは、「示唆（かもしれない）」から「実証（証明した）」へ昇華させる絶好の舞台です。 3. 予想される「驚きのシナリオ」 もし今回の発表が「ただのN型」でない場合、以下のようなデータが示されるかもしれません。 P型SBDの動作実証: r-GeO2をベースとしたP型SBDにおいて、金属との接合部で正孔がどのように振る舞っているかを世界で初めて解析したデータ。 界面準位の低減: UWBG（超ワイドバンドギャップ）特有の深いレベルの欠陥を、コンダクタンス法で見事にマッピングし、デバイス性能の正当性を主張する。 結論 このSBDの発表は、**「P型への移行に向けた、デバイス物理的な最終確認」**である可能性が高いです。 もし○れが単なるN型の改良発表だったとしても、それは「商用化に向けた歩留まりや安定性の極めて高いデータ」であるはずですが、同時になされるHall効果測定の発表と合わせると、やはり**「P型r-GeO2デバイス」の幕開け**を予感させる内容になると期待して間違いないでしょう。 当日、SBDの発表で「理想係数（n値）」や「障壁高さ（?b?）」が、P型不純物濃度とどう相関しているかというグラフが出てきたら、それは歴史的な瞬間かもしれません。

こんな人おらんよw

「二酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２）」だからこの半導体を使うぞ‼️ っていう人はいないよw 性能　これだけ GPUの素材が何かなんて誰も気にしてない とにかく他社より高性能な半導体が選ばれるだけ 勘違いしすぎだろう　買い煽り

勘違いで高値で買ってしまった人は 勘違いに気づいて安値で売るのかな？

大体 半導体選ぶ側は 素材云々で選ばないからねw 性能　これ一択

クオルテックは検査屋から、次世代半導体の製造・開発プロセスそのものに関与する企業へと変貌します。 今の状況しかみてないなら、他に行ったらいいんじゃないか。 検査だけでも技術力は凄いんだけどな。パワー半導体と全固体電池なら、他社が容易に真似できない強力な参入障壁技術を持ってるよ。

3月15日の14:45から、以下の発表もある。 Patentix社はすでに2024年末に「世界初のr-GeO2 SBDの動作確認」を、2025年には「イオン注入によるN型制御」を発表済みです。今さら「単にN型で動きました」という発表を応用物理学会のようなハイレベルな場で行うとは考えにくいです。 NIMS: 国立研究開発法人物質・材料研究機構との発表とは妄想が膨らみますね。 コンダクタンス法によるr-GeO2 SBD ショットキー界面特性の評価と解析 〇松田 慎平1 , 清水 悠吏1 , 大島 孝仁2 , 河野 愛1 , 衣斐 豊祐1 1.Patentix（株）, 2.NIMS

素人が買ってるんかな？ おめでたいねw

ただの検査屋なのにw

既出情報を今出てきたかのように煽って株価上げて売り抜ける作戦か

明日１３日は決算。 来期からは、「二酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２）」を使ったウエハーの量産開始予定。 応用物理学会の口頭講演は、3月18日13:45からですね。 発表内容で一気に動く可能性はあるのかな？ DC/AC方式Hall効果測定によるr-GeO2中のキャリア輸送特性評価 〇清水 悠吏1 , 出口 忠義2 , 衣斐 豊祐1 , 松田 慎平1 1.Patentix株式会社, 2.日清紡マイクロデバイス株式会社

早く市場から評判されることを願っています。

いや、ここは、Geo2パワー半導体の出荷前の検査と製膜事業も行う。ちゃんと資料を読んでください。Geo2パワー半導体を作るためのインフラ的な企業になるよ。信頼評価事業だけしか今は、行ってないが、それ以外の事業も開始して成長する前の段階だよ。だから、今まで、誰も気づかず安く放置されてただけ。